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COD處理設(shè)備技術(shù)方案

COD處理設(shè)備技術(shù)方案
用途:
廣泛用于電子半導(dǎo)體、電鍍涂裝、表面處理、石油石化、制藥、光伏等行業(yè)。
產(chǎn)品品牌: 其他品牌
價(jià)格: 我要詢價(jià)
廠商性質(zhì): 生產(chǎn)廠家
產(chǎn)品時(shí)間: 2018-08-21

產(chǎn)品概述

品牌其他品牌加工定制

COD處理設(shè)備技術(shù)方案

用途:

廣泛用于電子半導(dǎo)體、電鍍涂裝、表面處理、石油石化、制藥、光伏等行業(yè)。

應(yīng)用范圍:

集成電路、硅晶片、顯示器等排放廢水的回收再利用;

PCB、電子元器件、光學(xué)儀器、發(fā)電廠等排放水的循環(huán)利用;

電鍍廢水、機(jī)械加工廢水、礦山冶煉工業(yè)廢水等*處理;

發(fā)酵廢水、造紙工業(yè)廢水、印染廢水、制革廢水、廢水等*處理。

 

 

COD處理設(shè)備技術(shù)方案

投資省,效果好,運(yùn)行費(fèi)用低,工藝流程短,操作簡便易行,常溫常壓,可間斷運(yùn)行也可連續(xù)運(yùn)行。無沉渣沉泥產(chǎn)生,對(duì)環(huán)境無二次污染。

產(chǎn)要技術(shù)性能:

COD去除效率:75-95%

色度去除效率:98%以上

出水BOD:COD的比值:45%以上

處理能力:廠內(nèi)預(yù)制設(shè)備能力分設(shè)2m3/h,4m3/h現(xiàn)場制作設(shè)備及構(gòu)筑處理能力,可達(dá)50-2000m3/h

電鍍廢水中的COD高主要原因是電鍍工藝前處理化學(xué)除油、除蠟以及電解除油與大部分廢液殘留。環(huán)保研發(fā)團(tuán)隊(duì)針對(duì)電鍍COD研發(fā)處理新設(shè)備——COD深度氧化設(shè)備(ZQ-EC),取代傳統(tǒng)化學(xué)沉淀法的弊端,專門用來處理電鍍含COD廢水,不會(huì)帶來二次污染,COD去除率高。

COD深度處理設(shè)備的原理:采用催化氧化技術(shù),以雙氧水作為主氧化劑,重捕劑電催化氧化單元的陰極給出的電子作為催化劑,將雙氧水解離為羥基自由基(•OH),羥基自由基具有*氧化性,將廢水中有機(jī)物氧化,實(shí)現(xiàn)廢水的深度COD處理。

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